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摘要:
采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF<,3>单层膜.研究了基板温度对LaF<,3>薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分析结果表明:在本实验条件下,薄膜的折射率随温度的升高而增大;消光系数随温度的升高有增大的趋势;
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文献信息
篇名 基板温度对电子束沉积LaF3薄膜紫外性能的影响
来源期刊 聊城大学学报(自然科学版) 学科 物理学
关键词 光学薄膜 基板温度 电子束沉积 LaF3
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目 基础科学研究
研究方向 页码范围 61-62
页数 分类号 O484.1
字数 1249字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-6634.2011.01.015
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聊城大学学报(自然科学版)
双月刊
1672-6634
37-1418/N
大16开
山东省聊城市文化路34号
1988
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