基板温度对电子束沉积LaF3薄膜紫外性能的影响

• 作者: 张锋 郝殿中
• 来源期刊: 聊城大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 基板温度 电子束沉积 LaF3
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 基础科学研究
• 页码范围: 61-62
• 分类号: O484.1
• 字数: 1249字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6634.2011.01.015

摘要

采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF<,3>单层膜.研究了基板温度对LaF<,3>薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分析结果表明:在本实验条件下,薄膜的折射率随温度的升高而增大;消光系数随温度的升高有增大的趋势;