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热蒸发与离子束溅射制备 LaF3薄膜的光学特性
热蒸发与离子束溅射制备 LaF3薄膜的光学特性
作者:
张立超
才玺坤
时光
梅林
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
薄膜
LaF3
热蒸发
离子束溅射
应力
减反膜
摘要:
研究了钼舟热蒸发工艺和离子束溅射方法制备的单层LaF3薄膜的特性。首先,采用分光光度计测量了LaF3薄膜的透射率和反射率光谱,使用不同模型拟合得出薄膜的折射率和消光系数。然后,采用应力仪测量了加热和降温过程中LaF3薄膜的应力-温度曲线。最后,采用X射线衍射仪测试了薄膜的晶体结构。实验结果表明,热蒸发制备的LaF3( RH LaF3)存在折射率的不均匀性,在193 nm,其折射率和消光系数分别为1.687和5×10-4,而离子束溅射制备的LaF3( IBS LaF3)折射率和消光系数分别为1.714和9×10-4。两种薄膜表现出相反的应力状态,RH LaF3薄膜具有张应力,而IBS LaF3具有压应力,退火之后其压应力减小。热蒸发制备的 MgF2/LaF3减反膜在193 nm 透过率为99.4%,反射率为0.04%,离子束溅射制备的AlF3/LaF3减反膜透过率为99.2%,反射率为0.1%。
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文献信息
篇名
热蒸发与离子束溅射制备 LaF3薄膜的光学特性
来源期刊
中国光学
学科
物理学
关键词
薄膜
LaF3
热蒸发
离子束溅射
应力
减反膜
年,卷(期)
2014,(5)
所属期刊栏目
光学功能材料
研究方向
页码范围
808-815
页数
8页
分类号
O484.41
字数
3476字
语种
中文
DOI
10.3788/CO.20140705.0808
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张立超
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
31
306
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2
梅林
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
9
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才玺坤
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
3
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4
时光
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
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中国光学
主办单位:
中国科学院长春光学
精密机械与物理研究所
中国光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
2095-1531
CN:
22-1400/O4
开本:
大16开
出版地:
吉林省长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-140
创刊时间:
1985
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
8
总被引数(次)
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