沉积温度对LaF3薄膜性能的影响

• 作者: 余华 崔云 申雁鸣 范正修 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: LaF3薄膜 沉积温度 晶体结构 折射率 残余应力 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1507-1511
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3147字
• 语种: 中文

摘要

在189,255,277和321 ℃的沉积温度下用热舟蒸发方法制备了LaF3薄膜.通过X射线衍射(XRD)测试了薄膜的晶体结构;采用分光光度计测量了薄膜的透射光谱,并计算得到样品的折射率、消光系数和截止波长;利用光学干涉仪测试得到了薄膜的残余应力;采用三倍频Nd:YAG脉冲激光测试了薄膜的激光损伤阈值.结果表明:随沉积温度的提高,LaF3薄膜的结晶状况明显变好,晶粒尺寸逐渐变大;膜层变得更加致密,折射率变大,然而薄膜吸收变得严重,截止波段向长波漂移,同时薄膜的残余应力也增加,内应力在薄膜的残余应力中起着决定作用;薄膜的激光损伤阈值在高温制备时相对较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	齐红基	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	299	11.0	16.0