沉积温度对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响

• 作者: 曹丽云 王吉富 韩文 黄剑锋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: PbS薄膜 电沉积 沉积温度 光学性能
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 页码范围: 847-850
• 页数: 4页
• 分类号: TN213
• 字数: 1956字
• 语种: 中文

摘要

采用电沉积法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积温度对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响.结果表明:在U=3 V,pH=2.5,T=60 ℃,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜.薄膜显微结构均匀而致密,随着反应温度从20 ℃增加到60 ℃,薄膜内的压应力逐渐减小,禁带宽度也随着变小.所制备的微晶PbS薄膜的禁带宽度约为0.39 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄剑锋	陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室	271	1521	17.0	24.0
2	曹丽云	陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室	224	1288	16.0	22.0
3	韩文	陕西科技大学化学与化工学院	6	14	2.0	3.0
7	王吉富		1	1	1.0	1.0