沉积温度和退火处理对BCN薄膜结构的影响

• 作者: 张东明 张联盟 杨琼 沈强 王传彬 章嵩
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: BCN薄膜 沉积温度 退火 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444|TG156.2
• 字数: 2877字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.017

摘要

采用脉冲激光沉积技术,在Si(100)基片上制备了BCN薄膜,研究了沉积温度和退火处理对BCN薄膜组分和结构的影响.利用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)对制备的BCN薄膜进行了表征.结果表明:沉积温度升高时,BCN薄膜的组分无明显改变.所制备的BCN薄膜包含B-N,C-B和C-N化学键,是由杂化的B-C-N键构成的化合物.真空退火温度为700 ℃时,BCN薄膜结构稳定;大气退火温度达到600 ℃时,BCN薄膜表面发生氧化分解,同时有C≡N键形成,表明C≡N键具有较好的高温热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张联盟	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	249	2664	24.0	41.0
2	沈强	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	131	858	14.0	24.0
3	张东明	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	33	543	11.0	23.0
4	杨琼	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	10	35	2.0	5.0
5	王传彬	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	51	285	9.0	15.0
6	章嵩	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	10	28	4.0	5.0