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摘要:
本文采用离子束溅射方法制备 GdF3薄膜,并研究其沉积速率分布特征。首先,采用膜厚仪测量得出 GdF3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分布图,通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次,分析了束流束压及靶材角度对沉积速率分布特征的影响。最后,以二维沉积速率分布公式为基础,通过计算机编程设计均匀性挡板,并进行膜厚均匀性实验验证。结果表明,沉积速率在水平方向上满足 ECS 函数分布,在竖直方向上满足标准 Gauss 分布,拟合公式残差为2.05×10-6。改变离子源的束流和束压,沉积速率分布特征保持不变。而随着靶材角度的增大,Gauss 分布的半峰宽值ω逐渐增大,峰值位置 xc逐渐增大,在θ=292°时,GdF3薄膜的沉积速率最大。通过挡板修调实验,可将270 mm 口径平面元件的膜厚均匀性调整为97.9%。
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化学法
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文献信息
篇名 离子束溅射制备 GdF3光学薄膜沉积速率分布特性
来源期刊 中国光学 学科 物理学
关键词 离子束溅射 光学薄膜 沉积速率 二维拟合 膜厚均匀性
年,卷(期) 2016,(3) 所属期刊栏目 光学功能材料
研究方向 页码范围 356-363
页数 8页 分类号 O484.41
字数 4022字 语种 中文
DOI 10.3788/CO.20160903.0356
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离子束溅射
光学薄膜
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研究起点
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中国光学
双月刊
2095-1531
22-1400/O4
大16开
吉林省长春市东南湖大路3888号
12-140
1985
chi
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