一种N型轻掺杂氢化硅基薄膜的欧姆接触

• 作者: 丁建宁 李建凯 袁宁一
• 来源期刊: 常州大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 氢化硅基薄膜 欧姆接触 能带结构 费米能级
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 5-9
• 分类号: TQ320|TN304
• 字数: 1791字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0411.2011.04.002

摘要

使用等离子体增强化学气相沉积方法制备了一组磷掺杂氢化硅基薄膜.I-U曲线显示薄膜与铝电极形成了良好的欧姆接触.霍尔测试结果表明该组样品为轻掺杂；利用拉曼光谱和紫外-可见吸收光谱对薄膜的微结构和光学带隙进行了表征,并从薄膜能带结构出发探讨了形成欧姆接触的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁建宁	常州大学低维材料与微纳器件中心	66	95	5.0	6.0
3	袁宁一	常州大学低维材料与微纳器件中心	35	38	4.0	5.0
9	李建凯	常州大学低维材料与微纳器件中心	1	0	0.0	0.0