集成电路制造中化学气相沉积工艺废气的处理

• 作者: 刘书俊 沈祖宏
• 来源期刊: 洁净与空调技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 废气处理 现场除害装置 中央洗净塔
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 专题研讨
• 页码范围: 4-7
• 分类号: TU8
• 字数: 4677字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-3298.2011.01.002

摘要

集成电路制造过程中化学气相沉积(CVD)工艺生成大量有毒有害工艺废气,介绍在这道工序中工艺废气的成因及其无害化排放处理的过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘书俊	上海交通大学环境科学与工程学院	32	149	6.0	11.0
2	沈祖宏	上海交通大学环境科学与工程学院	1	0	0.0	0.0