氦气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

• 作者: 刘晓红 吉利 吕艳红 周惠娣 孔庆花 李红轩 陈建敏
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 CrAlN薄膜 微观结构 硬度 腐蚀
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 7-12
• 分类号: TG174.444|TB43
• 字数: 3473字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2011.04.002

摘要

采用中频非平衡反应磁控溅射技术制备CrAlN薄膜,研究了氮气分压对CrAlN薄膜的沉积速率、薄膜成分、微观结构、机械性能和耐腐蚀性能的影响,并与CrN薄膜的性能进行了比较.研究表明,相比较CrN薄膜而言,CrAlN薄膜的硬度高,结构致密,耐腐蚀性好.随着氮气流量的升高,CrAlN薄膜沉积速率降低,Cr/Al比率升高；薄膜中CrN(200)衍射峰强度逐渐增强,六方结构的AlN相逐渐消失；薄膜的粗糙度由39 nm降低至10 nm,并且腐蚀电位升高,耐腐性增强.当氮气流量为53 mL/min时,CrAlN薄膜具有最佳的硬度和优良的耐腐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈建敏		153	2711	28.0	45.0
2	李红轩		23	269	11.0	16.0
3	刘晓红		43	158	8.0	12.0
4	吉利		9	66	4.0	8.0
5	吕艳红	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	2	20	2.0	2.0
9	孔庆花	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	1	16	1.0	1.0