CVD金刚石膜高效超精密抛光技术

• 作者: 温泉 王坤 苑泽伟 金洙吉
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石膜 化学机械抛光 固结磨料 机械抛光
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 451-458
• 分类号: TG321
• 字数: 3900字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2011.05.014

摘要

CVD金刚石膜作为光学透射窗口和新一代计算机芯片的材料,其表面必须得到高质量抛光,但是现存方法难以满足既高效又超精密的加工要求.本文提出机械抛光与化学机械抛光相结合的方法.首先,采用固结金刚石磨料抛光盘和游离金刚石磨料两种机械抛光方法对CVD金刚石膜进行粗加工,然后采用化学机械抛光的方法对CVD金刚石膜进行精加工.结果表明,采用游离磨料抛光时材料去除率远比固结磨料高,表面粗糙度最低达到42.2 nm.化学机械抛光方法在CVD金刚石膜的超精密抛光中表现出较大的优势,CVD金刚石膜的表面粗糙度为4.551 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金洙吉	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	105	1334	18.0	32.0
2	温泉	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	3	67	3.0	3.0
3	王坤	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	7	27	4.0	5.0
4	苑泽伟	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	2	18	2.0	2.0