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摘要:
采用化学浴沉积法,以CdCl2·H2O、CS(NH2)2、NH4Cl、NH3·H2O和去离子水作为反应前驱物,在不同的氨水浓度下制备CdS纳米晶颗粒薄膜.通过扫描电镜、X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见光透射光谱、椭圆偏振光谱等方法,研究了反应前驱物中氨水浓度对CdS纳米晶颗粒薄膜的表面形貌、晶体结构、S/Cd原子比、光透过率、光学带隙、折射率、消光系数和光学吸收边等物理性能的影响.结果表明:反应前驱物中氨水浓度在0.4~1.0mol/L范围内,可以在衬底上形成均匀致密的CdS纳米晶颗粒薄膜.随着氨水浓度的增加,CdS纳米晶的平均晶粒尺寸逐渐减少,S/Cd原子比逐渐增加,由富Cd型转变为富S型,禁带宽度逐渐增加.在500~1000 nm波段内,折射率的平均值为1.75;消光系数k小于0.07.
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文献信息
篇名 CdS纳米晶颗粒薄膜的制备及其光学特性研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 CdS薄膜 化学浴沉积 折射率 消光系数 光学带隙
年,卷(期) 2011,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1580-1586
页数 分类号 O436
字数 4707字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 魏爱香 广东工业大学材料与能源学院 42 197 7.0 11.0
2 招瑜 广东工业大学材料与能源学院 17 86 4.0 8.0
3 赵湘辉 广东工业大学材料与能源学院 4 28 3.0 4.0
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人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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