激光干涉光刻法制作100nm掩模

• 作者: 方亮 王长涛 罗先刚 赵青 陈欣
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 激光干涉光刻 离子束刻蚀 纳米光刻 微纳结构制造
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 806-810
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3432字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112303.0806

摘要

介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法.针对掩模透光率以及对干涉图形对比度可能产生影响的两个参数分别进行了数值仿真,从而证明此方法的可行性和参数的优化选择.自搭干涉光刻实验系统,用257 nm的激光光源实现光刻,得到特征尺寸为100 nm的图形.再经过离子束刻蚀,最终得到周期200 nm、线宽100 nm的掩模.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵青	电子科技大学物理电子学院	58	420	12.0	16.0
2	罗先刚		2	26	2.0	2.0
3	陈欣	电子科技大学物理电子学院	2	20	1.0	2.0
7	方亮		1	20	1.0	1.0
8	王长涛		1	20	1.0	1.0