CMP设备中抛光垫修整机构的研究

• 作者: 徐存良 李伟 郭强生 高文泉
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 抛光垫修整机构 修整力 气动控制系统
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: CMP技术与设备
• 页码范围: 1-3,30
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 1400字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.08.001

摘要

介绍了一种新型抛光垫修整机构的功能、结构及运动原理,通过理论计算给出了修整力的计算公式,并介绍了一种原理简单,操作方便的气动控制系统。在工艺试验过程中,充分证明了其结构原理及控制系统的合理性,进而在理论和实践两个方面确定了该机构已达到设计要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李伟	中国电子科技集团公司第四十五研究所	71	74	5.0	5.0
2	郭强生	中国电子科技集团公司第四十五研究所	3	3	1.0	1.0
3	高文泉	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	6	1.0	2.0
4	徐存良	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	18	3.0	4.0