化学机械抛光用抛光垫的修整对修整效果的影响因素

• 作者: 华钱锋 方海生 袁巨龙
• 来源期刊: 轻工机械
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 抛光垫 修整
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 制造·维修
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: TG74
• 字数: 2604字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2895.2009.05.014

摘要

抛光垫修整是化学机械抛光的重要过程之一.合理的修整可以改善修整效果,提高抛光质量.抛光垫的修整效果可以通过修整器的设计和修整工艺参数进行调整.文章通过对CMP用抛光垫修整现状的阐述,分析了对其修整效果的影响因素.金刚石颗粒的排列方式会影响修整效果,颗粒尺寸的增大会促进修整效率的提高.修整效率随着修整压力的增大而增大,修整时间和转速对修整效率有影响.温度的升高,可以改善修整质量,修整密度越大,抛光垫的磨损率越高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁巨龙	浙江工业大学机械制造与自动化教育部重点实验室	116	1467	19.0	35.0
2	方海生	浙江工业大学机械制造与自动化教育部重点实验室	2	35	2.0	2.0
6	华钱锋	浙江工业大学机械制造与自动化教育部重点实验室	1	11	1.0	1.0