新型抛光垫沟槽及其在化学机械抛光中的作用研究进展

• 作者: 方照蕊 杨向东 邹微波 魏昕
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 抛光垫 表面沟槽
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 77-81
• 分类号: TG58
• 字数: 3042字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2012.02.018

摘要

化学机械抛光过程中,抛光垫性能是影响抛光质量和抛光效率的重要因素之一,而抛光垫的性能又受其表面沟槽结构形状的影响.在介绍几种常见抛光垫沟槽结构形状的特性及其作用研究的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,总结了几种新型抛光垫沟槽对抛光效果的影响,为抛光垫沟槽特性的进一步研究提供参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏昕	广东工业大学机电工程学院	111	782	15.0	22.0
2	杨向东	广东工业大学机电工程学院	19	72	5.0	8.0
3	邹微波	广东工业大学机电工程学院	3	33	3.0	3.0
4	方照蕊	广东工业大学机电工程学院	2	28	2.0	2.0