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摘要:
利用磁控双靶共溅射法制备了不同含量的铜镍合金薄膜,利用EDAX对合金薄膜衬底的铜镍配比进行了定量分析。以苯为碳源,选择相同的合金衬底分别在800、600和400℃的温度下使用化学气相沉积法生长石墨烯,对样品进行了拉曼光谱和SEM表征,研究了温度对石墨烯生长的影响。选择不同配比的铜镍合金衬底,在400℃下生长石墨烯,研究了衬底中铜、镍元素不同配比对石墨烯生长的影响。
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文献信息
篇名 铜镍合金为衬底化学气相沉积法制备石墨烯研究
来源期刊 功能材料 学科 化学
关键词 石墨烯 化学气相沉积 铜镍合金 磁控溅射 苯
年,卷(期) 2012,(23) 所属期刊栏目 研究与开发
研究方向 页码范围 3257-3260
页数 4页 分类号 O484|O613
字数 2495字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 任明伟 南京邮电大学光电工程学院 2 23 2.0 2.0
2 任睿毅 南京邮电大学光电工程学院 2 23 2.0 2.0
3 苏丹 南京邮电大学材料科学与工程学院 2 23 2.0 2.0
4 杨建平 南京邮电大学理学院 8 50 4.0 7.0
5 马延文 南京邮电大学材料科学与工程学院 9 49 4.0 7.0
6 王博琳 南京邮电大学光电工程学院 3 111 3.0 3.0
7 李兴鳌 1 17 1.0 1.0
传播情况
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化学气相沉积
铜镍合金
磁控溅射
苯
研究起点
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期刊影响力
功能材料
月刊
1001-9731
50-1099/TH
16开
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
78-6
1970
chi
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12427
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30
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