低亚表面损伤的YCOB晶体超精密抛光

• 作者: 张志萌 朱杰 马爽
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 亚表面 YCOB 抛光 CMP
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 页码范围: 1026-1030,1034
• 页数: 6页
• 分类号: TH161
• 字数: 2752字
• 语种: 中文

摘要

通过选择合适的研磨剂、抛光垫以及抛光材料,采用机械抛光与CMP抛光相结合的方法对应用于高激光损伤阈值的薄膜基体材料YCOB晶体进行表面加工.通过优化研磨抛光工艺后得到超光滑晶体表面,样品表面在125μm×94μm的范围内粗糙度RMS值达到0.6 nm,同时具有非常低的亚表面损伤层,经过超声清洗和有机溶剂刻蚀后,在高倍显微镜下无明显划痕.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱杰	同济大学物理科学与工程学院	8	21	3.0	4.0
2	马爽	同济大学物理科学与工程学院	7	6	1.0	2.0
3	张志萌	同济大学物理科学与工程学院	1	1	1.0	1.0