沉积气压对CVD金刚石涂层质量的影响

• 作者: 刘畅 杨俊杰 邓福铭 邹波
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 沉积气压 热丝CVD法 基体预处理 涂层质量
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TG74|TQ164
• 语种: 中文

摘要

沉积气压对CVD金刚石涂层沉积的质量有着重要的影响.实验采用单一变量法,在其他工艺参数一定的条件下,考察了不同沉积气压下涂层的质量.利用扫描电镜、Raman光谱仪、洛氏硬度计分别对样品的表面形貌、成分、涂层结合力进行测定.结果表明:沉积气压过低或过高都不利于涂层的生长.对于两步法,当控制碳源体积浓度为2％、沉积功率4 kW、热丝与基体的距离为5 mm时,最佳的反应气压为3 kPa,沉积后的涂层质量能达到最佳.