高介电常数HfAlO氧化物薄膜基电荷俘获型存储器件性能研究

• 作者: 张婷 殷江 汤振杰
• 来源期刊: 河南大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 高介电常数 HfAlO氧化物 电荷存储 原子层沉积
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 现代物理与材料科学
• 页码范围: 249-252
• 页数: 4页
• 分类号: O469|TB321
• 字数: 1478字
• 语种: 中文

摘要

利用原子层沉积方法制备了高介电常数材料(HfO2)08(Al2O3)0.2薄膜基电荷俘获型存储器件,并对器件的电荷存储性能做了系统研究.利用高分辨透射电子显微(HRTEM)技术表征了(HfO2)0.8(Al2O3)0.2薄膜的形貌、尺寸及器件结构.采用4200半导体分析仪测试了存储器件的电学性能.研究发现,存储器件在栅极电压为±8V时的存储窗口达到3.5 V;25℃,85℃和150℃测试温度下,通过外推法得到,经过10年的数据保持时间,存储器件的存储窗口减小量分别为17％,32％和48％；(HfO2)0.8(Al2O3)0.2薄膜基电荷俘获型存储器件经过105次写入/擦除操作后的电荷损失量仅为4.5％.实验结果表明,利用高介电常数材料(HfO2)0.8(Al2O3)0.2薄膜作为存储层能够提高器件的电荷俘获性能,具有良好的应用前景.