特定折射率材料及光学薄膜制备

• 作者: 申振峰
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜材料 激光防护膜 折射率 掺杂 双源共蒸
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 光学功能材料
• 页码范围: 900-905
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3483字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CO.20130606.0900

摘要

根据太阳电池阵激光防护膜性能优化的需要，应用离子辅助电子束双源共蒸工艺方法制备了优化设计所需的特定折射率的薄膜材料并用于制备激光防护膜。测试结果显示：用该工艺方法制备的掺杂材料薄膜的折射率n＝1.75，与优化设计所需数值相符；激光防护膜性能优良，太阳辐射能透过率提高6％以上，实现了对该激光防护膜性能的进一步优化。为了使该双源共蒸方法适于大面积薄膜的制备，应用均匀性挡板技术来提高该方法制备大面积薄膜的膜厚均匀性，使制备的掺杂材料薄膜在口径为400 mm时的不均匀性小于2.1％。该双源共蒸方法制备工艺简单、可靠，适于实际工程应用。薄膜性能测试结果与理论优化结果相符，达到预期优化目标。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	申振峰	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室	3	9	1.0	3.0