PECVD技术制备低折射率光学薄膜

• 作者: 周顺 杭凌侠 胡九龙
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 PECVD 低折射率 SiOF
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 95-97
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 语种: 中文

摘要

采用等离子体增强化学气相沉积法在硅片上沉积含氟氧化硅薄膜,用椭偏仪测量薄膜的光学参数,研究了在固定抽速和真空度自动调节情况下C2F6气体流量的变化对薄膜折射率、消光系数、沉积速率的影响.实验表明在温度300℃、射频功率200 W、压力20 Pa,SiH4 60 sccm,N2O4 40 sccm,C2F6 30 sccm的工艺参数下沉积的薄膜在550 nm处折射率为1.37,消光系数4×10-4,可作为光学减反膜的材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杭凌侠		93	777	15.0	22.0
3	周顺		32	113	6.0	8.0
7	胡九龙		2	11	2.0	2.0