抛光片IPA干燥技术研究

• 作者: 张伟才 赵权
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 异丙醇 马兰戈尼 底部残水 水痕
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 清洗技术与设备
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 1784字
• 语种: 中文

摘要

以Marangoni效应为基础的IPA干燥技术在衬底抛光片的干燥中遇到了瓶颈,即干燥后出现水痕缺陷.Marangoni干燥过程中,抛光片表面的水符合重力场下的杨方程模型,其脱离效果与晶片提拉速率和IPA流量密切相关.研究中发现,IPA流量在20 L/min、提拉速率在1 mm/s时干燥效果最佳;另外,Marangoni干燥过程不能完全去除晶片底部的残水,需要营造合适的蒸发环境,减压排风下供给适量的IPA蒸汽有助于底部残水的去除.晶片与花篮在干燥过程中有相互影响,完全分离的模式可以消除这种影响,但同时会使干燥时间增长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵权	中国电子科技集团公司第四十六研究所	30	136	6.0	9.0
2	张伟才	中国电子科技集团公司第四十六研究所	22	42	4.0	4.0