磁场退火温度对Ni80Fe20薄膜磁畴结构的影响研究

• 作者: 向勇 吴平 张师平 徐建 陈森
• 来源期刊: 实验技术与管理
• 学科: 物理学
• 关键词: Ni80Fe20薄膜 磁畴 磁场退火
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 实验技术与方法
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

利用电子束真空蒸发方法制备了厚度100 nm的Ni80Fe20薄膜,研究了磁场退火温度对薄膜磁畴结构的影响.利用振动样品磁强计测量了磁滞回线,利用磁力显微镜观察了薄膜的表面形貌和磁畴结构.结果表明:磁畴结构为明显的条状畴,磁畴宽度最大值约为860 nm;随着磁场退火温度的升高,磁畴取向趋于沿垂直膜面方向,退火温度为600℃时,沿着主畴的畴壁形成了细小的横向细畴结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴平	北京科技大学数理学院	93	481	11.0	17.0
2	陈森	北京科技大学数理学院	37	166	7.0	10.0
3	张师平	北京科技大学数理学院	30	128	6.0	10.0
4	徐建	北京科技大学数理学院	1	8	1.0	1.0
5	向勇	北京科技大学数理学院	1	8	1.0	1.0