电弧离子镀不同色泽TiN薄膜的工艺研究

• 作者: 刘野 吴功航 李洪玉 路少怀 黄美东
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 TiN薄膜 色泽 氮气分压 基体偏压
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 新秀园地
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 2326字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2013.05.009

摘要

采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响.结果表明,氮气压强对TiN薄膜的色泽有明显的影响和控制作用.随着氮气分压的增大,薄膜的色泽由浅黄色向红棕色变化.实验发现,基体偏压对膜层的色泽也有一定的影响,当氮气分压一定时,施加偏压所得TiN薄膜比不施加的颜色更浅.可见,通过调节基体偏压和氮气流量,可以获得所需颜色的TiN薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李洪玉	天津师范大学物理与电子信息学院	33	559	13.0	23.0
2	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
3	刘野	天津师范大学物理与电子信息学院	10	48	5.0	6.0
4	路少怀	天津师范大学物理与电子信息学院	1	4	1.0	1.0
5	吴功航	天津师范大学物理与电子信息学院	1	4	1.0	1.0