ICP-CVD制备a-CHON及光学性能分析

• 作者: 吴卫东 干泰原 曹林洪 陈飞
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频电感耦合等离子体化学气相沉积 a-CHON薄膜 沉积速率 表面形貌 光学性能
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 408-414
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2013.05.03

摘要

采用外置电感耦合等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/CO2/H2作为反应气体,制备出非晶的a-CHON薄膜.研究了放电功率对薄膜沉积速率、表面形貌及光学性能的影响.结果表明沉积速率随着放电功率的增加而增加,而非线性增加；原子力显微镜分析结果表明放电功率对薄膜粗糙度有较大的影响；红外光谱分析表明了薄膜内部存在C-O,C=O,C≡N以及C-H键；紫外-可见-近红外光分析表明,薄膜的光学带隙随放电功率的增加而减小；薄膜折射率在可见光区的色散图表明,折射率随入射光频率的增加而减小,出现反常色散关系；而在同一波长下薄膜的折射率先随放电功率的增加而减小,而后又有所增加.