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摘要:
为了在光学元件镀膜过程中精确控制膜厚均匀性,通常需要有针对性地设计并制作膜厚修正挡板.然而,由于基底在真空室内运动方式复杂,实际工作中通常采用多次试验,反复进行局部修正的方法来确定挡板形状.为解决这一问题,本文提出了遮挡矩阵的概念.基于这一概念,提出了膜厚修正挡板的设计方法.通过对挡板进行合理的划分,对膜厚空间分布与挡板形状建立起精确的定量关系,从而可在不需进行事后修正的情况下,准确计算出修正挡板的形状.针对平面行星夹具,设计并制作了膜厚修正挡板,在φ300 mm的口径上实现了膜厚均匀性的PV值优于0.3%、rms值优于0.1%.这些结果验证了这一方法的有效性,表明该方法满足光学元件镀膜过程中高效、可靠地调整膜厚均匀性的要求.
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文献信息
篇名 基于遮挡矩阵的膜厚修正挡板的设计
来源期刊 光学精密工程 学科 物理学
关键词 热蒸发 膜厚控制 膜厚均匀性 行星夹具 修正挡板 遮挡矩阵
年,卷(期) 2013,(11) 所属期刊栏目 现代应用光学
研究方向 页码范围 2757-2763
页数 7页 分类号 O484.1
字数 4645字 语种 中文
DOI 10.3788/OPE.20132111.2757
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张立超 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室 31 306 10.0 16.0
2 高劲松 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中科院光学系统先进制造技术重点实验室 63 701 16.0 23.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
热蒸发
膜厚控制
膜厚均匀性
行星夹具
修正挡板
遮挡矩阵
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
月刊
1004-924X
22-1198/TH
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-166
1959
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
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