不同基底上HfO2/SiO2多层膜的力学性能

• 作者: 张伟丽 王河 贺洪波
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 HfO2/SiO2多层膜 YAG晶体 K9玻璃 力学性能
• 年，卷（期）: 2013,（7）
• 所属期刊栏目: 070 薄膜
• 页码范围: 142-146
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.0707003

摘要

用电子束蒸发技术在K9玻璃及YAG晶体上沉积了HfO2/SiO2多层膜,采用纳米划痕仪对薄膜的力学性能进行了研究.实验结果表明:沉积在YAG和K9的多层膜弹性模量分别为34.8 GPa和38.5 GPa,基底对薄膜的弹性模量影响较小；YAG和K9上薄膜的粘附失效临界附着力分别为5 mN和7 mN,薄膜与YAG基底的结合状态较K9基底的差,并且呈现不同破坏模式.从薄膜之间及膜基界面处的界面结合状态和弹性模量两方面分析解释了YAG基底和K9基底上薄膜的不同力学行为.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0
2	张伟丽	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	97	4.0	9.0
3	王河	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0