大面积头罩上类金刚石薄膜均匀性研究

• 作者: Ewan Waddell 付秀华 刘国军 李琳 杨永亮 潘永刚
• 来源期刊: 红外与激光工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜 头罩 田口实验方法 均匀性
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 光学晶体与薄膜
• 页码范围: 181-184
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2209字
• 语种: 中文

摘要

根据军用光学仪器对红外窗口薄膜厚度均匀性的特殊要求,采用Femm42软件对射频等离子体化学气相沉积系统中真空室内的电场进行模拟分析,通过改变DOME的高度,并加入一金属圆环,解决了头罩边缘脱膜的问题.并利用田口实验方法指导实验,以减少实验次数,尽快找出影响薄膜性能的主次条件,同时可以分析各工艺参数对结果的影响趋势,最终确定最佳的工艺参数,在大面积头罩上成功镀制了厚度均匀性小于3％,且能承受恶劣环境测试的类金刚石薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付秀华	长春理工大学光电工程学院	141	525	11.0	15.0
2	刘国军	长春理工大学光电工程学院	62	303	9.0	14.0
3	杨永亮	长春理工大学光电工程学院	9	46	4.0	6.0
4	潘永刚	长春理工大学光电工程学院	15	71	4.0	8.0
5	李琳	长春理工大学光电工程学院	2	9	1.0	2.0