刻槽结构高功率微波输出窗次级电子倍增效应

• 作者: 张慧博 李国林 杨建华 程国新 舒挺
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率微波 输出窗 次级电子倍增 矩形刻槽
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 高功率微波
• 页码范围: 1189-1194
• 页数: 6页
• 分类号: O461|TM215
• 字数: 4156字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132505.1189

摘要

从理论上分析了周期性矩形刻槽对喇叭天线输出窗真空侧次级电子倍增的影响.采用动力学方法分析得到电子沿介质窗表面运动的渡越时间和碰撞能量,验证得到一定尺寸的矩形刻槽介质窗可以有效抑制次级电子倍增效应.在此情况下,对比了刻槽和不刻槽两种输出窗的辐射特性,发现周期2 mm、宽度1mm、深度1 mm的矩形刻槽对介质窗辐射特性的影响可以忽略.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨建华	国防科学技术大学光电科学与工程学院	70	367	9.0	13.0
2	舒挺	国防科学技术大学光电科学与工程学院	55	384	10.0	16.0
3	李国林	国防科学技术大学光电科学与工程学院	10	43	4.0	6.0
4	程国新	国防科学技术大学光电科学与工程学院	5	35	4.0	5.0
5	张慧博	国防科学技术大学光电科学与工程学院	5	11	2.0	3.0