高功率微波介质窗表面矩形槽抑制二次电子倍增

• 作者: 刘纯亮 宋佰鹏 张冠军 穆海宝 苏国强 范壮壮
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率微波 二次电子倍增 介质窗 沿面闪络 矩形槽
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 脉冲功率技术
• 页码范围: 271-275
• 页数: 5页
• 分类号: TM21
• 字数: 3067字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201426.065008

摘要

为深入研究高功率微波(HPM)作用下介质窗沿面击穿破坏的物理机制,探索提高闪络场强阈值的方法和途径,开展了介质窗表面矩形刻槽抑制电子倍增的理论与试验研究.首先根据动力学方程建立了介质窗表面电子倍增模型并分析了介质窗槽内电子运动轨迹,考虑了矩形槽结构对表面微波电场的影响,理论分析表明在闪络击穿的起始和发展阶段矩形槽可有效抑制电子倍增.在S波段(2.86 GHz,脉宽1μs)下开展了介质窗表面矩形刻槽的击穿破坏试验,试验结果发现表面矩形刻槽可大幅度提高微波传输功率,在槽深(1.0mm)一定时不同的刻槽宽度(0.5 mm和1.0 mm)对应的微波功率抑制范围不同.采用PIC-MC仿真模拟槽内倍增电子的时空演化,仿真结果很好地验证了试验现象.