多晶管式PECVD镀膜均匀性的研究

• 作者: 张欣 王森栋 王森涛 白翔 贾彦科 郭卫
• 来源期刊: 企业技术开发（下半月）
• 学科: 工学
• 关键词: 管式PECVD 镀膜均匀性 石墨舟
• 年，卷（期）: 2013,（21）
• 所属期刊栏目: 高新论坛
• 页码范围: 51-52,54
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2627字
• 语种: 中文

摘要

文章针对管式PECVD镀氮化硅薄膜均匀性问题,从硅片厚度检测、制绒成品检测、PECVD工艺调整及石墨舟的使用四个方面对问题进行了分析.结果表明,硅片膜厚偏差在20 um范围内,制绒成品的折射率在17.5％-18.5％之内,使用合理的PECVD工艺配方,及对石墨舟进行监控维护,可以解决镀膜不均匀性问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾彦科		6	3	1.0	1.0
2	张欣		3	3	1.0	1.0
3	王森涛		13	6	1.0	2.0
4	郭卫		9	7	2.0	2.0
5	白翔		4	3	1.0	1.0
6	王森栋		5	3	1.0	1.0