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摘要:
图形化蓝宝石衬底(PSS)工艺在改善GaN晶体外延生长质量以及提升LED器件发光提取效率方面作用显著,并被LED行业大量采用.针对高亮度LED量产线大量采用二手投影光刻机制备PSS衬底所面临的焦深不足、垂向控制容易离焦,以及运动台拼接精度不足等问题导致的PSS良率仅有70%~80%的现象,有针对性地在新研制的高亮度LED光刻机中采用最佳线宽/焦深选择技术、无缝拼接技术、Mapping垂向控制技术,使PSS的制造良率达到95%以上,极大地降低了PSS制造返工成本.同时,针对芯片细电极曝光需求,采用精密机器视觉对准技术,实现了芯片电极层1μm线宽下200 nm套刻精度.
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高亮度显示屏VFD的驱动芯片VF202及其应用
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显示屏
利用掺杂制备高亮度的黄光器件
有机电致发光器件
掺杂
黄光
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 高亮度LED步进投影光刻机及其量产应用
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 光刻机 图形化蓝宝石衬底 发光二极管 氮化镓
年,卷(期) 2014,(2) 所属期刊栏目 先进光刻技术与设备
研究方向 页码范围 11-17,60
页数 8页 分类号 TN304|TN305
字数 3110字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈勇辉 2 2 1.0 1.0
2 李志丹 2 5 1.0 2.0
3 孙刚 1 0 0.0 0.0
4 张俊 1 0 0.0 0.0
传播情况
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研究主题发展历程
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光刻机
图形化蓝宝石衬底
发光二极管
氮化镓
研究起点
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研究分支
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电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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