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摘要:
涂胶显影机的产能设计是一个重要部分,通过对机台的工艺时间参数、工艺处理周期时间参数、工艺传递周期时间参数等核心参数的设计,有效地配置工艺处理模块的数量及位置、工艺传递晶圆的速度及路线,搭建出目标机台内的工艺模块组成架构,确定出目标机台内的各个机器人技术参数,满足与光刻机联线生产的量产涂胶显影机对产能的技术需求.
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文献信息
篇名 涂胶显影机的产能设计
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 机台的工艺时间参数 工艺处理周期时间参数 工艺传递周期时间参数
年,卷(期) 2014,(8) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 8-10,14
页数 4页 分类号 TN305
字数 2346字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 尹宁 3 0 0.0 0.0
2 胡延兵 3 0 0.0 0.0
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2014(0)
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研究主题发展历程
节点文献
机台的工艺时间参数
工艺处理周期时间参数
工艺传递周期时间参数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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