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摘要:
为了解VC薄膜生长过程,通过第一性原理方法,对C(和V)原子在VC晶体表面和晶体内部的迁移情况进行了计算.结果显示,C(和V)的单原子在VC晶体表面格点位置具有最低的系统能量,此时,C原子的活动性仍较强,其迁移激活能仅为0.08 eV,而V原子由稳定的格点位置迁移则有较大阻力,激活能为2.48 eV;在VC晶体内部,C和V原子在(111)层面内迁移的激活能分别为3.34和4.30 eV,层间激活能分别为2.93和3.64 eV,表明它们在晶内的迁移极为困难.结合此结果,对VC薄膜的制备参数进行了讨论.
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文献信息
篇名 NaCl结构VC薄膜生长过程中原子迁移的第一性原理研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 物理学
关键词 第一原理 迁移 VC 生长过程
年,卷(期) 2014,(10) 所属期刊栏目 功能薄膜
研究方向 页码范围 1097-1100
页数 分类号 O484.1.1
字数 语种 中文
DOI 10.13922/j.cnki.cjovst.2014.10.17
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李戈扬 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 109 1036 18.0 25.0
2 刘学杰 57 114 6.0 7.0
3 孙士阳 19 25 3.0 4.0
5 尚海龙 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 16 34 4.0 4.0
8 徐平平 11 12 1.0 3.0
9 马冰洋 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 4 3 1.0 1.0
10 张安明 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 4 3 1.0 1.0
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第一原理
迁移
VC
生长过程
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研究来源
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1981
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