氧气流量对MPCVD制备微/纳米双层金刚石膜的影响

• 作者: 刘聪 吕琳 汪建华 翁俊
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: MPCVD 微/纳米 金刚石膜 氧气流量
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 页码范围: 2630-2634
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3097字
• 语种: 中文

摘要

应用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以CH4/H2/Ar为主要气源,成功制备出了微/纳米双层金刚石膜.同时,在纳米膜层生长过程中,通过添加O2辅助气体,研究了不同O2流量对微/纳米金刚石膜生长的影响.结果表明,当O2流量在0 ～ 0.8 sccm范围时,所获得的金刚石膜仍为微/纳米两层膜结构;当氧气流量增加到1.2 sccm时,金刚石膜只有一层微米膜结构;而O2流量在0～ 1.2 sccm范围时,纳米层晶粒尺寸及品质与氧气流量成正比例关系.表明适量引入O2可以促进纳米层晶粒长大和提高膜品质.另外,当O2流量为0.8 sccm,所制备的微/纳米金刚石膜不仅品质好,而且生长率也较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
2	刘聪	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	4	15	2.0	3.0
3	翁俊	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	33	102	4.0	8.0
4	吕琳	武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	7	31	3.0	5.0