基于同步辐射光刻工艺和电铸工艺的金属纳米光栅模具制备

• 作者: 杉山进 李以贵
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 同步辐射光刻 金属光栅模具 纳米电铸 聚甲基丙烯酸甲酯 母模 粘接剂
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 178-182
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201441.1106002

摘要

随着微电子技术的发展,有必要研究在基板上制备高深宽比并拥有垂直侧壁的微纳结构.基于X射线可以制备高质量的纳米母光栅,利用精密纳米电铸技术从母光栅中复制出高质量的微纳金属光栅模具.研究了一种高深宽比的金属镍光栅模具的制备技术.基于同步辐射光刻技术,在硅基板上制备线宽分别为0.25,0.5,1 μm,高2.0 μm的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光栅.利用精密电铸技术,得到线宽分别为0.25,0.5,1μm的金属镍纳米光栅模具,1 μm的金属光栅深宽比达1.5.为了获得高质量的PMMA纳米光栅母模,使用了粘接剂,克服了光栅倒伏的缺陷,优化曝光参数,消除了结构底部出现的多余的小三角形结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李以贵		24	34	4.0	4.0
2	杉山进		1	0	0.0	0.0