椭圆偏振研究溅射气压对锰膜光学性质的影响

• 作者: 唐华杰 张晋敏 胡维前 谢泉 邵飞 金浩
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频溅射 金属锰膜 溅射气压 椭偏光谱
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 页码范围: 347-351
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 4357字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1010.2015.03.015

摘要

采用射频磁控溅射技术在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在2.0～4.0 eV光子能量范围内研究了溅射压强对锰膜光学性质的影响.分别用德鲁得-洛伦兹模型以及有效介质模型对椭偏参数进行拟合,结果表明随压强增大薄膜致密度先增大后减少;折射率随压强增大先减少后增大;而消光系数随压强的变化与光子能量有关,在低能量区变化复杂,高能量区随压强增加与折射率规律一致.分析表明上述变化与薄膜的致密度密切相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡维前	贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所	3	2	1.0	1.0
2	张晋敏	贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所	47	261	7.0	15.0
3	邵飞	贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所	3	2	1.0	1.0
4	金浩	贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所	4	11	2.0	3.0
5	唐华杰	贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所	3	9	2.0	3.0