溅射气压对Si/Ge多层膜结构光学常数的影响

• 作者: 张晋敏 杨宇 郜小勇 陈良尧
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多层膜结构 椭偏光谱 光学常数 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 77-79
• 页数: 3页
• 分类号: TN3
• 字数: 2452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2003.01.018

摘要

采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数,测量能量范围为1.5～4.5eV.分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响.实验结果表明,在低能区域,随压强的增加,多层膜结构的所有光学常数均有不同程度的增加,但在高能区域,溅射气压对光学常数的影响不再明显.多层膜结构的复介电常数的实部和虚部及折射率n的峰位随压强增大而向低能方向位移;多层膜结构的消光系数k的峰位随压强的变化很小,但其峰值随压强的增加而增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈良尧	复旦大学光科系	53	230	8.0	13.0
2	杨宇	云南大学材料系	101	377	9.0	12.0
3	张晋敏	复旦大学光科系	47	261	7.0	15.0
7	郜小勇	复旦大学光科系	3	11	2.0	3.0