碳靶电流对磁控溅射Cp/AlSn复合镀层显微结构的影响

• 作者: 李建平 郭巧琴 郭永春
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 关键词: Cp/AlSn镀层 磁控溅射 显微结构
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 1857-1861
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

采用非平衡磁控溅射离子镀技术,当碳靶电流在0.2～.0.8 A范围,在AlZn4.5Mg轴承合金和单晶硅Si (100)表面制备Cp/AlSn复合镀层.通过X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM)以及X射线光电子能谱(XPS)分别对复合镀层的相组成,微观形貌及化学态进行表征.结果表明:复合镀层为等轴晶结构;其相组成主要为均匀分布的铝、锡和碳3种相;X射线光电子能谱分析表明,在Cp/AlSn复合镀层中,铝和锡2种元素主要以单质形态存在,碳元素以sp2和sp32种杂化形式存在,其中以sp2杂化为主.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李建平		150	842	15.0	21.0
2	郭永春		104	493	12.0	17.0
3	郭巧琴		20	40	5.0	5.0