晶硅良好表面钝化技术及其在n型电池中的应用

• 作者: 冯泽增 刘新宇 李昊峰 窦丙飞 贾锐 金智
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 表面钝化 晶硅电池 n型电池 钝化机理 叠层钝化
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 太阳能利用技术
• 页码范围: 485-494
• 分类号: TN305.2|TM914.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.04.18

摘要

优秀的表面钝化已成为高效电池制作的一项关键重要技术,本文对目前晶体硅钝化及其在太阳电池中的应用做了总结与介绍.首先阐述了目前常用的几种钝化薄膜钝化机理与制备方法,分析了各自优缺点及适用场合,并重点讨论了不同钝化膜组成的叠层钝化.随着最近n型高效电池研究的快速发展,介绍了当今几种常见的n型电池结构,对比了不同材料钝化对电池性能影响.最后对未来发展作了总结与展望.虽然目前晶体硅太阳能市场仍以p型硅为主,可以预见,n型电池将是未来高效低成本电池发展的方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李昊峰	中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室	10	34	4.0	5.0
2	贾锐	中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室	29	160	6.0	11.0
3	刘新宇	中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室	141	717	13.0	18.0
4	金智	中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室	30	92	5.0	8.0
5	窦丙飞	中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室	4	5	1.0	2.0
6	冯泽增	中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室	1	4	1.0	1.0