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摘要:
针对硅通孔(Through Silicon Via; TSV)高度、直径和绝缘层厚度三个结构参数建立了25种不同水平组合的HFSS仿真模型,获取了这25种TSV的回波损耗和插入损耗并进行了方差分析.结果表明:随信号频率升高,TSV最大表面电场强度和插入损耗减小而回波损耗增大;在置信度为99%时,TSV高度是影响回波损耗和插入损耗的显著性因素;TSV直径和绝缘层厚度对回波损耗和插入损耗影响均不显著;TSV高度对回波损耗和插入损耗影响最大,其次是TSV直径,最后是绝缘层厚度.
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文献信息
篇名 基于正交设计的硅通孔信号完整性分析
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 硅通孔 电场强度 回波损耗 插入损耗 正交设计 方差分析
年,卷(期) 2015,(5) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 66-70
页数 5页 分类号 TP391.9
字数 3641字 语种 中文
DOI 10.14106/j.cnki.1001-2028.2015.05.018
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张欣 成都航空职业技术学院电子工程系 9 9 2.0 3.0
2 黄春跃 桂林电子科技大学机电工程学院 81 410 11.0 16.0
3 梁颖 成都航空职业技术学院电子工程系 50 190 7.0 11.0
4 林训超 成都航空职业技术学院科技处 15 94 6.0 9.0
5 邵良滨 桂林电子科技大学机电工程学院 7 11 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
硅通孔
电场强度
回波损耗
插入损耗
正交设计
方差分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
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31758
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