二维MoS2纳米材料的制备及在光催化中的应用进展

• 作者: 卜修明 王丁 王朋朋 王现英 许颖
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: MoS 2 二维纳米材料 综述 光催化 复合材料 禁带宽度
• 年，卷（期）: 2015,（9）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 7-12
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 字数: 4060字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2015.09.002

摘要

二硫化钼（MoS 2）是一种类石墨烯过渡金属二硫化物。单层MoS 2凭借其超薄的层状结构和适宜的禁带宽度（1.9 eV），在纳米电子学，光电子学和微纳器件等领域备受关注。此外，凭借丰富的边缘结构、巨大的比表面积、良好的化学稳定性和可调控禁带宽度，二维MoS 2逐渐成为新型光催化材料的研究热点。综合近年来国内外关于二维MoS 2在光催化领域的研究成果，详细归纳并梳理了二维MoS 2的结构、性能及制备方法。特别关注了二维MoS 2与其他半导体材料结合形成二元或三元光催化复合体系在光催化水解制氢和光催化降解有机污染物两方面的最新研究进展。最后，对二维MoS 2在光催化领域的研究前景进行了展望。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王现英	上海理工大学材料科学与工程学院	22	61	5.0	7.0
2	王丁	上海理工大学材料科学与工程学院	12	28	3.0	5.0
3	王朋朋	上海理工大学材料科学与工程学院	3	14	1.0	3.0
4	许颖	上海理工大学材料科学与工程学院	3	17	2.0	3.0
5	卜修明	上海理工大学材料科学与工程学院	1	12	1.0	1.0