低介电常数聚酰亚胺薄膜研究进展

• 作者: 任小龙 冯俊杰 汪英
• 来源期刊: 中国塑料
• 学科: 工学
• 关键词: 聚酰亚胺 薄膜 低介电常数 制备 研究进展
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 17-24
• 页数: 8页
• 分类号: TQ323.7
• 字数: 9388字
• 语种: 中文

摘要

依据国内外低介电常数聚酰亚胺(PI)薄膜材料的专利研究情况,综述了近年来低介电常数PI薄膜的制备方法,包括引入含氟取代基、脂环结构、嵌段结构、微孔结构、无机杂化材料等方法制备低介电常数材料.同时,对低介电常数PI薄膜的研究趋势进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任小龙		24	336	9.0	18.0
2	汪英		7	21	3.0	4.0
3	冯俊杰		5	63	3.0	5.0