靶基距和锭料蒸发速率对沉积薄板厚度均匀性的影响

• 作者: 孙跃 宋广平 李明伟 李晓 林秀 赫晓东 赵轶杰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束物理气相沉积 合金薄板 厚度均匀性 有效蒸发效率
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 真空技术与理论
• 页码范围: 255-258
• 分类号: TF131.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.03.01

摘要

电子束物理气相沉积技术被采用制备大尺寸高温合金薄板,靶基距和不同坩埚中锭料蒸发速率对厚度均匀性的影响规律被研究.研究结果表明,靶基距对锭料的有效蒸发效率和厚度均匀性具有重要影响.靶基距低,有效蒸发效率高,反之,靶基距高,有效蒸发效率低.靶基距与锭料的有效蒸发效率成反比关系.调整不同坩埚中锭料蒸发速率,可获得不同的薄板厚度分布.当靶基距为h=50 cm,2号坩埚蒸发量为83％,4号坩埚蒸发量为17％时,沉积薄板厚度分布均匀性最好,在r≤450 mm范围内薄板厚度分布满足国家薄板厚度公差标准.理论计算与实验结果相符合表明模型合理.