磁控溅射法LaMnO3帽子层的外延生长探究

• 作者: 刘志勇 朱红艳 梁玉 白传易 范峰 范晓鹏 蔡传兵 郭艳群 闫祥发 鲁玉明
• 来源期刊: 低温物理学报
• 关键词: LaMnO3 帽子层 直流磁控溅射 涂层导体
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 页码范围: 28-32
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

采用卷对卷装置通过直流反应磁控溅射法在离子束辅助沉积(IBAD)的MgO上生长获得了纯c轴织构的LaMnO3 (LMO)帽子层,详细研究了不同基底温度、氧分压、溅射功率及不同MgO基底对LMO帽子层微结构及其性能的影响,研究表明,LMO具有一定的生长优化工艺,而IBAD-MgO基底性能对LMO的外延生长的影响尤为显著.在最优条件下,最终获得了纯c轴织构、面内外半高宽都较小且表面比较致密平整的LMO帽子层,以此LMO薄膜作为缓冲层,通过化学法外延生长的YBCO超导薄膜,其77 K自场下Jc达到1.69 MA/cm2.