电磁场对电弧离子镀沉积AlTiN涂层的影响

• 作者: 张权 梁俊才 王启民 耿东森 邹长伟
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 阴极电弧移动 AlTiN涂层 微观结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 666-671
• 分类号: TB383.2|TB302.1|TB333
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.06.11

摘要

主要研究电磁场对电弧离子镀沉积AlTiN涂层的影响.通过改变电磁场的电压,研究阴极弧斑在不同电磁场下的运动现象以及AlTiN涂层的微观结构和力学性能.结果表明阴极弧斑的运动受磁场电压的影响.增加磁场电压,弧斑更多的在电弧靶中心区域聚集.AlTiN涂层的大颗粒分布、沉积速率、微观结构和硬度相应地受电磁场电压的影响.文章对相关机理进行了研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王启民	广东工业大学机电工程学院	25	153	6.0	11.0
2	梁俊才		6	16	2.0	4.0
3	邹长伟	广东工业大学机电工程学院	4	21	2.0	4.0
4	张权	广东工业大学机电工程学院	3	3	1.0	1.0
5	耿东森	广东工业大学机电工程学院	4	16	3.0	4.0