不同层厚比WSx/a-C多层膜的组织结构与摩擦学特性

• 作者: 史玉龙 李昂 杨芳儿 沈靖枫 章荣 郑晓华
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: WS2 a-C 多层膜 摩擦与磨损 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 659-665
• 分类号: TH117.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.06.10

摘要

利用磁控溅射法在单晶硅上制备了不同层厚比的WSx/a-C纳米多层膜(调制周期约50 nm).用扫描电镜、X射线衍射、能谱、X射线光电子谱和Raman光谱对薄膜的形貌、成分和组织结构等进行了表征.采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦仪测试了薄膜的硬度、结合力和在大气环境下(相对湿度约70％)的摩擦学性能.结果表明:随着层厚比La-C/LWSx的增加,多层膜的ns/nw比由1.38增大至1.62,并伴随着WS2尺寸的减小以及薄膜致密度和平整度的提高,a-C层和WSx层的结构无明显变化;多层膜的磨损率仅为纯WSx膜的1/3～1/4,摩擦因数由0.26降至0.2,硬度和磨损率均出现峰值,而结合力呈相反变化趋势.层厚比La-C/LWSx为1∶39的多层膜的摩擦因数为0.26,磨损率为9.8 ×10-14 m3/Nm,耐磨性最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑晓华	浙江工业大学材料科学与工程学院	35	161	7.0	10.0
2	杨芳儿	浙江工业大学材料科学与工程学院	32	87	6.0	7.0
3	章荣	浙江工业大学材料科学与工程学院	3	19	3.0	3.0
4	李昂	浙江工业大学材料科学与工程学院	4	11	2.0	3.0
5	沈靖枫	浙江工业大学材料科学与工程学院	4	11	2.0	3.0
6	史玉龙	浙江工业大学材料科学与工程学院	3	11	2.0	3.0