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摘要:
宽带束离子注入机的均匀性调节系统由线圈磁铁组及可调磁极组组成,通过分析调节原理,结合实际调试中获得的可调磁极组中单个磁极调节的束流均匀性影响曲线,拟合曲线,建立束流均匀性影响模型,进一步推导出调节模型.在实际应用中,设计合理的控制方法,根据束流的实际情况,采用内/外插值法,适时调节束流均匀性影响模型参数组,可改善模型的适应性.经过测试表明,采用基于束流均匀性调节模型的迭代调节方法,可实现束流均匀性调节,测试注入300 mm硅片的方块电阻均匀性达到1.17%.
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文献信息
篇名 宽带束离子注入机均匀性调节与控制方法研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 宽带束 离子注入机 均匀性调节 迭代算法
年,卷(期) 2016,(10) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 1-5
页数 5页 分类号 TN305.3
字数 2303字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 彭立波 中国电子科技集团公司第四十八研究所 7 5 2.0 2.0
2 张赛 中国电子科技集团公司第四十八研究所 3 2 1.0 1.0
3 钟新华 中国电子科技集团公司第四十八研究所 8 7 2.0 2.0
4 张进学 中国电子科技集团公司第四十八研究所 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
宽带束
离子注入机
均匀性调节
迭代算法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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