集成电路BCD工艺平台中Double Resurf技术概述

• 作者: 慈朋亮
• 来源期刊: 中国新通信
• 关键词: 电源管理 LDMOS 集成电路
• 年，卷（期）: 2016,（13）
• 所属期刊栏目: 互联网+技术 Internet Technology
• 页码范围: 46-46,47
• 页数: 2页
• 字数: 3185字
• 语种: 中文

摘要

BCD工艺是一种先进的单片集成工艺技术，把双极器件和CMOS器件同时制作在同一芯片上。它综合了双极器件高跨导、强负载驱动能力和CMOS集成度高、低功耗的优点，使其互相取长补短，发挥各自的优点。更为重要的是，它集成了DMOS功率器件， DMOS可以在开关模式下工作，功耗极低。不需要昂贵的封装和冷却系统就可以将大功率传递给负载。低功耗是BCD工艺的一个主要优点之一。本篇文章对高性能LDMOS开发中的Double Resurf技术进行了简要阐述。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	慈朋亮		3	2	1.0	1.0