NiC/Ti中子多层膜的微结构和界面研究

• 作者: 张众 李文斌 王占山 靳鑫 黄秋实
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 NiC/Ti多层膜 微结构 界面粗糙度
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: X射线光学
• 页码范围: 2859-2864
• 页数: 6页
• 分类号: O434
• 字数: 2477字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20172511.2859

摘要

NiC/Ti中子超镜是一种高性能的中子多层膜光学元件,是提升中子导管、聚焦装置等中子光学系统的中子利用率的关键之一.为了提升NiC/Ti中子超镜的性能,本文面向具有不同厚度NiC膜层的NiC/Ti多层膜,分别采用X射线掠入射反射和X射线衍射的方法表征了Nic/T i多层膜的膜层厚度、界面粗糙度和膜层晶向结构.研究结果表明:随着NiC膜层厚度的增长,除了在较小尺度(≤2.5 nm),NiC-on-Ti界面的粗糙度基本保持不变;而Ti-on-NiC界面的粗糙度却呈现出较大的变化.具有不同厚度的Nic膜层的Nic/Ti多层膜的界面粗糙度呈现不对称性的变化,主要原因在于Nic膜层的微结构随着膜层厚度的增长而产生了变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王占山	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	92	640	14.0	19.0
2	张众	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	25	122	7.0	10.0
3	李文斌	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	9	10	2.0	2.0
4	黄秋实	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	5	1	1.0	1.0
5	靳鑫	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	3	0	0.0	0.0